金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
pvd真空镀膜设备与您分享被pvd涂层工件表面要求:
1.工件表面不能有锈迹、腐蚀、油漆、胶水、胶料;
2.工件表面必须是光亮并且未经表面改性处理的(如化学电镀、氮化、发黑、td或者cvd 等);
3.工件表面粗糙度要求:一般的刀具、模具和零配件在满足使用需求的前提下越光滑越好,成型面 ra<0.2um为宜;
4.工件不能是组装件,组装件必须拆开后分别涂层;螺丝、堵头等必须完全拆除;
5.工件有焊接处理,丽水pvd真空镀膜设备,表面需清洁,pvd真空镀膜设备多少钱,不能氧化层或埋孔,并且需要提前---,以评估是否适合涂层;
6.pvd涂层前,提供工件需要涂层区域和涂层位置的示意图或者图纸(包括哪些位置必须涂层,哪些位置不能涂层,哪些位置无所谓)。
真空手套箱用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制zrn膜。真空手套箱设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源,以及脉冲偏压电源。
(1)抽真空
5 x 10-3~6.6 x 10-13pa本底真空。真空手套箱设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100~150℃。
(2)轰击清洗
真空度:通---真空度保持在2~3pa。轰击电压:800~1000v,脉冲占空比20%。轰击时间:10min。
(3)手套箱
沉积锆底层
真空度:通入气,真空度保持在s x l0-1pa。靶电压:400—550v,靶功率15 n 30w/crrr2。脉冲偏压:450~500v,占空比20 %。手套箱时间:5~10min。
镀zrn膜
真空度:通入氮气,真空度保持在(3~5) x 10-1pa。靶电压:400~550v,pvd真空镀膜设备厂家,靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压:150~200v,占空比80 %。手套箱时间:20~30min。
由于真空手套箱磁控溅射技术中金属离化率低,不容易进行反应沉积,获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空手套箱设备可采用气体离子源将反应气体离化,扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源,pvd真空镀膜设备公司,柱状弧源还是辅助手套箱源。
pvd:物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有---的性能。 pvd基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
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