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真空镀膜与您分享物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但30年迅速发展，成为一门---广阔应用前景的新技术，并向着型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今，在钟表行业，尤其是手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。
真空蒸镀基本原理是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子束、激光束、离子束高能轰击镀料，嘉兴真空镀膜，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历，真空蒸镀是pvd法中使用早的技术。
物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境---，真空镀膜市场，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
随着---及新兴工业发展，物理气相沉积技术出现了不少新的的亮点，如多弧离子镀与磁控溅射兼容技术，大型矩形长弧靶和溅射靶，非平衡磁控溅射靶，孪生靶技术，带状泡沫多弧沉积卷绕镀层技术，条状纤维织物卷绕镀层技术等，使用的镀层成套设备，向计算机全自动，大型化工业规模方向发展。
离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，真空镀膜多少钱，在被镀基体上加负偏压。这样在---负偏压的作用下，纳米真空镀膜，离子沉积于基体表面形成薄膜。
物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：
(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。
(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。
(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。
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