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真空镀膜与您分享pvd镀膜工艺离子镀(ion plating)

pvd镀膜涂层工艺中的为离子镀膜方式；此方法是利用电弧撞击靶材，使靶材原子被激发出来，与反应性气体反应，形成化合物沉积于工件表面的一种技术。炉内运行---真空后，通入惰性气体，加偏压造成离子(ar+)，及带负电的电子(e-)，带正电的离子会撞向通入偏压为负极的基板底材，来清洁工件表面；之后再通入反应气体，真空离子镀膜厂，在靶材和基板底材间产生电浆，进行镀膜作业。此一方式成膜速度快、密著性较佳，多用于切削刀具镀膜涂层处理。

大部分企业都采用的阴极电弧法(cathode arc)进行镀膜作业。与其他方式相比，此种方式拥有较多的离化率、均匀的附着性，大多被应用在金属的硬质镀膜上，---是要求耐磨耗的物件。

减反射膜

是应用广泛的光学薄膜，它可以减少光学表面的反射率而提高其透射率。对于单---长，理论上的反射率可以降到零，透射率为百分之100;对于可见光谱段，反射率可以降低到百分之0.5，甚至---，以---一个由多个镜片组成的复杂系统有足够的透射率和低的杂散光。现代光学装置没有一个是不经过减反处理的。由于其具有很低的反射率和鲜艳的表面颜色，现代人们日常生活中的眼镜普遍都镀有减反射膜。