物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境---,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
随着---及新兴工业发展,物理气相沉积技术出现了不少新的的亮点,pvd真空镀膜设备公司,如多弧离子镀与磁控溅射兼容技术,大型矩形长弧靶和溅射靶,非平衡磁控溅射靶,孪生靶技术,带状泡沫多弧沉积卷绕镀层技术,条状纤维织物卷绕镀层技术等,使用的镀层成套设备,向计算机全自动,广州pvd真空镀膜设备,大型化工业规模方向发展。
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pvd是英文physical vapor deition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
pvd技术的发展
pvd技术出现于二十世纪七十年代末,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、---的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视,人们在开发、高---性涂层设备的同时,也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了深入的涂层应用研究。与 cvd工艺相比,pvd工艺处理温度低,在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力,pvd真空镀膜设备厂家,更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层; pvd工艺对环境无不利影响,符合现代绿色制造的发展方向。目前pvd涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。
pvd技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度,涂层成分也由代的tin发展为tic、ticn、zrn、crn、mos2、tialn、tialcn、tin-aln、cnx、dlc和ta-c等多元复合涂层。
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