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在高真空状态下,每立方厘米的气体分子数在100个以下。分子间的碰撞很少,分子主要与容器壁相碰撞。高真空的用途之一是得到纯净的气体,其二是获得纯净的固体表面。此时气体分子在固体表面上是以吸附停留为主。

利用真空技术可获得与---情况不同的真空状态。电子材料、电子元器件和半导体集成电路的研制和生产与真空技术有着密切的关系。真空技术已广泛用于工业生产、科学实验和---的研究等领域。




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真空蒸镀设备主要由真空室和抽真空系统组成,真空室内有蒸发源(即蒸发加热器)、基片及基片架、基片加热器、排气系统等。

将镀膜材料置于真空室内的蒸发源中,pvd真空镀膜机价格,在高真空条件下,pvd真空镀膜机,通过蒸发源加热使其蒸发,当蒸气分子的平均自由程大于真空室的线性尺寸以后,膜材蒸气的原子和分子从蒸发源表面逸出后,很少受到其他分子或原子的碰撞与阻碍,可直接到达被镀的基片表面上,由于基片温度较低,膜材蒸气粒子凝结其上而成膜。




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