什么是真空镀膜设备?
真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,婺城pvd镀膜机,磁控溅射,mbe分子束外延,pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被成为基片,pvd镀膜机厂,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,pvd镀膜机厂家,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过蒸发镀膜设备+所镀产品图蒸发镀膜设备+所镀产品图程,终形成薄膜。
工艺流程
单色、渐变色:抛光/喷砂/拉丝***除油***阳极氧化***中和***染色***封孔***烘干
双色:抛光/喷砂/拉丝***除油***遮蔽***阳极氧化1***阳极氧化2 ***封孔***烘干
抛光/喷砂/拉丝***除油***阳极氧化1 ***镭雕***阳极氧化2 ***封孔***烘干
技术特点
1、提升强度,
2、实现除白色外任何颜色。
3、实现无镍封孔,满足欧、美等对无镍的要求。
金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
pvd镀膜机与您分享pvd镀膜膜层的特点,采用pvd镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、---的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
pvd镀膜能够镀出的膜层种类,pvd镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(tin、zrn、crn、tialn)和碳化物膜(tic、ticn),以及氧化物膜(如tio等)。pvd镀膜膜层的厚度—pvd镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,真空pvd镀膜机,一般为0.3μm~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm~1μm,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,镀后不须再加工。
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