pvd镀膜机厂-金百辰-金华pvd镀膜机

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金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd镀膜机与您分享电子束蒸发

电子束蒸发是将镀膜材料放入水冷铜坩埚中,用高能密度的电子束轰击镀膜材料而使其蒸发的一种方法。蒸发源由电子发射源、电子加速电源、坩埚(通常是铜坩埚)磁场线圈、冷却水套等组成。在该装置中,被加热的物质放置于水冷的坩埚中,电子束只轰击其中很少的一部分物质,其余的大部分物质在坩埚的冷却作用下一直处于很低的温度,可以看作被击部分的坩埚。因此,电子束加热蒸发的方法可以避免镀膜材料和蒸发源材料之间的污染。

电子束蒸发源的结构形式可以分为直式(布尔斯)、环形(电偏转)和e形(磁偏转)3种。在一个蒸发装置内可以安置一个或者多个坩埚,这可以同时或者分别蒸发沉积多种不同物质。电子束蒸发源有下述优点:

1、电子束轰击蒸发源的束流密度高,能获得远比电阻加热源的能量密度,可以蒸发高熔点材料,真空pvd镀膜机,如w,mo,a1203等:

2、镀膜材料置于水冷铜坩埚中,可以避免发源 材料的蒸发,以及两者之间的反应;

3、热量可以直接加到镀膜材料的表面,使得热,热传导和热辐射的损失少.电子束加热蒸发方式的缺点是电子发出的一次电子和镀膜材料表面发出的二次电子会使蒸发原子和残余气体分子电离,这有时候会影响膜层。






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pvd镀膜机与您分享低真空(102~10-1pa)

在低真空状态下,每立方厘米内的气体分子数为1018~1018个。气体分子密度与正常---压有很大差别,气体中的带电粒子在电场作用下,会产生气体导电现象。这时,气体的流动也逐渐从黏稠滞流状态过渡到分子状态,这时气体分子的动力学性质明显,气体的对流现象完全消失。因此,如果在这种情况下加热金属,金华pvd镀膜机,可基本上避免与气体的化合作用,真空热处理一般都在低真空区域进行。此外,随着容器中压强的降低,液体的沸点也大为降低,由此而引起剧烈的蒸发,而实现所谓真空冷冻脱水。在此真空区域,由于气体分子数减少,分子的平均自由程可以与容器尺寸相比拟,并且分子之间的碰撞次数减少,而分子与容器壁的碰撞次数却---增加。





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pvd镀膜机与您分享有四个因素影响着清洗的,分别为:清洗时间、化学药剂、机械作用以及清洗液温度,这四个因素之间也相互影响,塑料pvd镀膜机,一个因素的减弱,可以通过增强另外三个因素的作用来弥补,反之亦然。在这四个因素中,清洗时间的较小化也是追求的目标,这样可以提高清洗的效率.缩短生产时间和交货周期。清洗主要方法和步骤应包括:化学药剂喷淋、化学药剂浸泡与超声波清洗、漂洗、烘干。




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