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5.全封闭非平衡磁控溅射 通过全封闭非平衡电磁场的作用，---地提高真空室内的离化率以及沉积速率，增强膜基结合力和薄膜沉积的均匀性。

6.脉冲高能窄峰直流溅射 提高瞬间的轰击能量和溅射靶材的离化率(高至50%~60%)，接近电弧的离化率。通过电磁场的作用可以---增加沉积离子的能量，从而---膜层的结合力和致密性。

7.阳极层离子源辅助沉积 提高轰击清洗的，金华pvd真空镀膜，---是可以实现对非导体的镀前清洗，镀膜时辅助沉积，提高沉积粒子的能量，---膜层的结合力。

8.纳米复合多层膜 纳米沉积技术，是涂层结构未来的发展方向，通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜，pvd真空镀膜厂，实现涂层性能的---增强。

9.装饰性双色间镀 单一的颜色pvd涂层已满足不了市场的需求，进而提出双色间镀的要求，pvd真空镀膜厂商，这是装饰涂层的发展方向，pvd真空镀膜原理，双色间镀的成为代表pvd加工企业的生产技术水平标志。

10.高能脉冲叠加直流偏压 减少工件的打火，增加沉积离子能量，增强膜基结合力，提高沉积速率。

11.---温捕集泵 通过低温冷凝效应，迅速捕集真空系统内的残余气体，---是水蒸汽，---缩短抽真空的时间，获得洁净的真空环境。

12.分子泵及深冷泵 ---，---降低能耗，真空系统抽速稳定，镀膜工艺，重现性好。深冷泵还可以抽排低饱和蒸汽压等难抽气体，---真空系统的洁净度。