物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境---,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
随着---及新兴工业发展,物理气相沉积技术出现了不少新的的亮点,如多弧离子镀与磁控溅射兼容技术,大型矩形长弧靶和溅射靶,非平衡磁控溅射靶,孪生靶技术,带状泡沫多弧沉积卷绕镀层技术,条状纤维织物卷绕镀层技术等,使用的镀层成套设备,向计算机全自动,大型化工业规模方向发展。
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1.除特殊涂层外,涂层材料必须是导电的;
可以涂层材料包括:高合金工具钢、高速钢、不锈钢、硬质合金、钛合金等;
2.由于涂层生成温度在380-500℃,因此涂层工件的材料要能够承受500℃的温度而不发生性能变化(如挥发、变形、变软等),pvd真空镀膜机大概多少钱一台,一般需要热处理3次高温回火处理;特殊低温(260-380℃)涂层工艺可降低涂层温度,具体可视工件的回火温度以及性能要求而定;
3.工件能够在涂层前进行退磁处理。
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