工艺流程
单色、渐变色:抛光/喷砂/拉丝***除油***阳极氧化***中和***染色***封孔***烘干
双色:抛光/喷砂/拉丝***除油***遮蔽***阳极氧化1***阳极氧化2 ***封孔***烘干
抛光/喷砂/拉丝***除油***阳极氧化1 ***镭雕***阳极氧化2 ***封孔***烘干
技术特点
1、提升强度,pvd真空镀膜技术,
2、实现除白色外任何颜色。
3、实现无镍封孔,满足欧、美等对无镍的要求。
pvd:物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移,温州pvd真空镀膜,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有---的性能。 pvd基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境---,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
随着---及新兴工业发展,物理气相沉积技术出现了不少新的的亮点,pvd真空镀膜加工,如多弧离子镀与磁控溅射兼容技术,大型矩形长弧靶和溅射靶,非平衡磁控溅射靶,孪生靶技术,带状泡沫多弧沉积卷绕镀层技术,pvd真空镀膜原理,条状纤维织物卷绕镀层技术等,使用的镀层成套设备,向计算机全自动,大型化工业规模方向发展。
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