金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
真空镀膜与您分享
真空蒸镀原理
(1) 真空蒸镀是在真空条件下,真空镀膜市场,将镀料加热并蒸发,使大量的原子、分子气化并离开液体镀料或离开固体镀料表面(升华)。
(2)气态的原子、分子在真空中经过很少的碰撞迁移到基体。
(3)镀料原子、分子沉积在基体表面形成薄膜。
蒸发源
将镀料加热到蒸发温度并使之气化,这种加热装置称为蒸发源。的蒸发源是电阻蒸发源和电子束蒸发源,特殊用途的蒸发源有高频感应加热、电弧加热、辐射加热、激光加热蒸发源等。
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pvd是英文physical vapor deition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
pvd技术的发展
pvd技术出现于二十世纪七十年代末,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、---的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视,人们在开发、高---性涂层设备的同时,也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了深入的涂层应用研究。与 cvd工艺相比,pvd工艺处理温度低,义乌真空镀膜,在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力,更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层; pvd工艺对环境无不利影响,符合现代绿色制造的发展方向。目前pvd涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。
pvd技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度,涂层成分也由代的tin发展为tic、ticn、zrn、crn、mos2、tialn、tialcn、tin-aln、cnx、dlc和ta-c等多元复合涂层。
当今镀膜行业使用的制作方式主要有两种,一种是化学气相沉积,也就是化学镀膜(cvd),模具真空镀膜,一种是物理气相沉积,也就是真空镀膜(pvd)。化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学镀膜的过程中,容易产生溶液污染,如果镀件表层杂质多,镀出来的效果不好。化学镀膜需要的反应温度---,一般要控制在 1000℃左右,但很多基体材料是无法经受如此高温,性能变坏。如在硬质合金刀具上蒸镀 tin,基体扩散出来的碳会与溶液发生反应而形成脱碳层,该层韧性差,抗弯强度低,造成刀具使用寿命缩短。而 pvd 技术解决了化学镀膜中的溶液污染问题,不会产生有毒或有污染的物质,金属真空镀膜,镀出来的膜层硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性好,性能更稳定,可制备多姿多彩的膜层,镀制硬质合金刀具可使其寿命提高 2-10 倍。
因此,从行业的技术发展趋势来看,等离子处理、真空法将成为未来行业技术发展的方向。
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