溅射镀膜基本原理是充(ar)气的真空条件下,使气进行辉光放电,这时(ar)原子电离成离子(ar+),离子在电场力的作用下,加速轰击以镀料制作的阴极靶材,靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电,称直流(qc)溅射,射频(rf)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(m)辉光放电引起的称磁控溅射。 电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下,用引弧针引弧,pvd镀膜机价格,使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电,阴极表面快速移动着多个阴极弧斑,不断迅速蒸发甚至“异华”镀料,使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体,并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑,浦江pvd镀膜机,所以也称多弧蒸发离化过程。
喷砂
喷砂是以压缩空气为动力,形成高速喷射束喷射到需---的工件表面,把表面的杂质、杂色及氧化层清除掉,同时使产品表面达到一定的光洁度,消除工件残余应力和提高基材表面硬度。
钝化
钝化处理是化学清洗的重要处理工艺,可以预防基材的腐蚀现象。另外,钝化处理能去除精密、高精密刀具刃口毛刺、清洁镀后涂层表面大颗粒及抛光表面涂层等作用。使用的砂料,主要有粗砂和细砂两种。
真空镀膜设备使用步骤
1电控柜的操作
1)开水泵、气源
2)开总电源
3)开维持泵、真空计电源,真空pvd镀膜机,真空计档位置v1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。
4)开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到v2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。
5)观察涡轮分子泵读数到达250以后,pvd镀膜机厂家,关予抽,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子电源。
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