真空pvd镀膜机-金百辰-舟山pvd镀膜机

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pvd镀膜机与您分享真空蒸镀工艺实例 以塑料金属化为例，pvd镀膜机价格，真空蒸镀工艺包括：镀前处理、镀膜及后处理。

真空蒸镀的基本工艺过程如下：

(1)镀前处理，包括清洗镀件和预处理。具体清洗方法有清洗剂清洗、化学溶剂清洗、超声波清洗和离子轰击清洗等。具体预处理有除静电，涂底漆等。

(2)装炉，包括真空室清理及镀件挂具的清洗，蒸发源安装、调试、镀件褂卡。

(3)抽真空，一般先粗抽至6．6pa以上，更早打开扩散泵的前级维持真空泵，加热扩散泵，待预热足够后，打开高阀，用扩散泵抽至6×10-3pa半底真空度。

(4)烘烤，将镀件烘烤加热到所需温度。

(5)离子轰击，pvd镀膜机厂家，真空度一般在10pa～10-1pa，离子轰击电压200v～1kv负高压，离击时间为5min～30min，

(6)预熔，调整电流使镀料预熔，除气1min～2min。

(7)蒸发沉积，根据要求调整蒸发电流，直到所需沉积时间结束。

(8)冷却，镀件在真空室内冷却到一定温度。

(9)出炉，．取件后，舟山pvd镀膜机，关闭真空室，抽真空至l × l0-1pa，扩散泵冷却到允许温度，才可关闭维持泵和冷却水。

(10)后处理，涂面漆。

离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，真空pvd镀膜机，在被镀基体上加负偏压。这样在---负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。

物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤：

(1)镀料的气化：即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。

(2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。

(3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。