金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
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5.全封闭非平衡磁控溅射 通过全封闭非平衡电磁场的作用,---地提高真空室内的离化率以及沉积速率,增强膜基结合力和薄膜沉积的均匀性。
6.脉冲高能窄峰直流溅射 提高瞬间的轰击能量和溅射靶材的离化率(高至50%~60%),接近电弧的离化率。通过电磁场的作用可以---增加沉积离子的能量,pvd真空镀膜设备厂家,从而---膜层的结合力和致密性。
7.阳极层离子源辅助沉积 提高轰击清洗的,---是可以实现对非导体的镀前清洗,镀膜时辅助沉积,pvd真空镀膜设备多少钱,提高沉积粒子的能量,---膜层的结合力。
8.纳米复合多层膜 纳米沉积技术,是涂层结构未来的发展方向,通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜,实现涂层性能的---增强。
9.装饰性双色间镀 单一的颜色pvd涂层已满足不了市场的需求,进而提出双色间镀的要求,这是装饰涂层的发展方向,长春pvd真空镀膜设备,双色间镀的成为代表pvd加工企业的生产技术水平标志。
10.高能脉冲叠加直流偏压 减少工件的打火,增加沉积离子能量,增强膜基结合力,提高沉积速率。
11.---温捕集泵 通过低温冷凝效应,pvd真空镀膜设备价格,迅速捕集真空系统内的残余气体,---是水蒸汽,---缩短抽真空的时间,获得洁净的真空环境。
12.分子泵及深冷泵 ---,---降低能耗,真空系统抽速稳定,镀膜工艺,重现性好。深冷泵还可以抽排低饱和蒸汽压等难抽气体,---真空系统的洁净度。
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pvd真空镀膜设备与您分享磁场不均匀的影响
由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的,也不是处处正交的,都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的,至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响,也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的,有效方法就是配合实验具体分析。是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。
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pvd真空镀膜设备与您分享真空镀铝工艺有哪些常见的问题?
薄膜表面出现褐色条纹
原因: 真空度低 解决方法:清洁真空室内的送铝、蒸镀装置、冷却系统、放卷、卷取装置及导辊;检查抽真空系统;降低环境湿度。
薄膜释放气体。解决方法:薄膜预干燥;延长抽真空时间。
喷铝过多。解决方法:提高车速;降低蒸发舟电流;降低送铝速度。
蒸发舟内有杂质。解决方法:清洁蒸发舟及热屏蔽板。
蒸发舟老化。解决方法:更换蒸发舟。
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