pvd真空镀膜设备多少钱-pvd真空镀膜设备-金百辰镀膜设备

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜设备与您分享电子束蒸发

电子束蒸发是将镀膜材料放入水冷铜坩埚中，用高能密度的电子束轰击镀膜材料而使其蒸发的一种方法。蒸发源由电子发射源、电子加速电源、坩埚(通常是铜坩埚)磁场线圈、冷却水套等组成。在该装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，电子束只轰击其中很少的一部分物质，其余的大部分物质在坩埚的冷却作用下一直处于很低的温度，可以看作被击部分的坩埚。因此，电子束加热蒸发的方法可以避免镀膜材料和蒸发源材料之间的污染。

电子束蒸发源的结构形式可以分为直式(布尔斯)、环形(电偏转)和e形(磁偏转)3种。在一个蒸发装置内可以安置一个或者多个坩埚，这可以同时或者分别蒸发沉积多种不同物质。电子束蒸发源有下述优点:

1、电子束轰击蒸发源的束流密度高，能获得远比电阻加热源的能量密度，pvd真空镀膜设备多少钱，可以蒸发高熔点材料，如w，mo，a1203等:

2、镀膜材料置于水冷铜坩埚中，可以避免发源 材料的蒸发，以及两者之间的反应;

3、热量可以直接加到镀膜材料的表面，使得热，热传导和热辐射的损失少.电子束加热蒸发方式的缺点是电子发出的一次电子和镀膜材料表面发出的二次电子会使蒸发原子和残余气体分子电离，这有时候会影响膜层。

金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd真空镀膜设备与您分享pvd镀膜工艺离子镀(ion plating)

pvd镀膜涂层工艺中的为离子镀膜方式；此方法是利用电弧撞击靶材，使靶材原子被激发出来，与反应性气体反应，pvd真空镀膜设备价格，形成化合物沉积于工件表面的一种技术。炉内运行---真空后，通入惰性气体，加偏压造成离子(ar+)，及带负电的电子(e-)，pvd真空镀膜设备厂，带正电的离子会撞向通入偏压为负极的基板底材，来清洁工件表面；之后再通入反应气体，在靶材和基板底材间产生电浆，进行镀膜作业。此一方式成膜速度快、密著性较佳，pvd真空镀膜设备，多用于切削刀具镀膜涂层处理。

大部分企业都采用的阴极电弧法(cathode arc)进行镀膜作业。与其他方式相比，此种方式拥有较多的离化率、均匀的附着性，大多被应用在金属的硬质镀膜上，---是要求耐磨耗的物件。