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pvd是英文physical vapor deition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

pvd技术的发展

pvd技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、---的耐磨性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视，真空装饰镀膜，人们在开发、高---性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了深入的涂层应用研究。与 cvd工艺相比，pvd工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层； pvd工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。目前pvd涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

pvd技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度，涂层成分也由代的tin发展为tic、ticn、zrn、crn、mos2、tialn、tialcn、tin-aln、cnx、dlc和ta－c等多元复合涂层。